硅溶胶是一种性能优良的纳米材料，是无定形二氧化硅颗粒在水或有机溶剂中均匀分散形成的胶体溶液，是用途极为广泛的无机高分子材料。高纯硅溶胶主要指电子级硅溶胶，由于其应用的特殊性，一般来说高纯硅溶胶的纯度在99.9999%左右或至少99.999%。
高纯硅溶胶行业目前现状分析
根据QYR的调研，全球硅溶胶的产量在2021年超过90万吨，中国硅溶胶的产量占据约60%的市场份额。但是在高端的高纯硅溶胶领域，中国本地企业占据的市场份额低于5%，这说明中国在硅溶胶行业呈现典型的大而不强的发展趋势。扶桑化学，诺力昂，格雷斯和日产化学是该行业的四大巨头。就高端的高纯硅溶胶的市场而言，中国本地企业市场份额微乎其微，这和中国下游CMP抛光液的市场份额息息相关。
就全球高纯硅溶胶的应用来看，中国CMP浆料与国外企业存在5-10年的差距，就整个产业链来看，从高纯硅溶胶到CMP浆料中国本地制造商的能力依然十分孱弱，与世界先进水平存在很大差距。目前，中国市场上存在很多小型的硅溶胶生产商，由于没有掌握核心技术在加上无序竞争，中国整体硅溶胶市场呈现产能利用率不高的特点。在未来，控制总量优化布局、加强创新提高产品精细化率、培育发展企业知名品牌以及构筑循环经济推进责任关怀，是“十四五”期间行业要完成的主要任务。推进优化产业结构，升级传统产业是无机硅化物行业未来五年规划发展的首要任务。对于高端的高纯硅溶胶，是中国硅溶胶行业发展所必须进行突破的一个领域。
就整个高纯硅溶胶市场而言，目前其销量已经超过10万吨，占据了约10%的市场份额。2021年全球高纯硅溶胶市场销售额达到了307.44百万美元，预计2028年将达到404.83百万美元，年复合增长率（CAGR）为4.34%（2022-2028）。
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高纯硅溶胶生产商主要集中于日本和美国，由于全球大部分CMP浆料企业均集中这两个地区，因此市场集中度很高。其中，默克的产品主要自用，而扶桑化学在对外销售的市场上占据了相当大的市场份额，基本上领先的日本CMP浆料制造商的供应商均是扶桑化学。
虽然诺力昂和格雷斯都是硅溶胶主要制造商，但是高纯硅溶胶领域依然难以媲美扶桑化学。在未来，如果CMP抛光液的国产化不能和日本企业竞争，即便中国企业进入高纯硅溶胶领域也难以和扶桑化学竞争。国产企业市场份额很小，其产品也是自用为主。
当前，全球半导体行业依然呈现高度景气的周期，而且新一轮的半导体投资将拉开序幕，CMP浆料作为一种基础耗材，需求量呈现稳步增长的趋势，因此就未来需求而言，高纯硅溶胶的需求增长呈现稳定的发展趋势，也就是高纯硅溶胶行业具有高度的确定性。
93%的高纯硅溶胶用于晶圆抛光和CMP浆料，因此其市场需求主要是由于半导体行业扩张所带动的。考虑到CMP浆料主要制造商如Cabot Microelectronics，DuPont，Fujimi Incorporated，Merck KGaA (Versum Materials)均为美日企业，中国本地企业发展高纯硅溶胶可谓困难重重，目前依然和国外企业存在较大差距，但是考虑到中国半导体的发展趋势，中国制造商依然有望在未来的全球的市场占据一席之地，但是取代国外厂商的目标不切实际。
目前，全球硅溶胶供需基本处于平衡状态，由于下游需求并不强劲，全球硅溶胶市场呈现温和增长。此外，随着市场的整合，无序市场正在慢慢整合，小型玩家渐渐的被市场所淘汰。而高端的高纯硅溶胶市场呈现产销两旺的趋势，疫情给中低端市场的硅溶胶带来了实质性影响，导致了其产量下滑，但是高纯硅溶胶受到疫情的影响较小。
高纯硅溶胶产业链分析
硅溶胶的用途很广，从国防航天到普通老百姓生活中都需求目前随着高科技硅晶片产品不断引进扩大生产，硅溶胶在电子元器件上的需求量不断扩大，硅溶胶在硅晶片生产中作为研磨清洗剂是目前市场需求很大的一个品种。
在低端市场上，硅溶胶的市场波动已经不大，下游客户选择性多，追求价格和性价比依然将是市场的常态。而中高端市场上，下游客户更加在乎的是产品本身的质量而非价格，随着市场的发展，产品和价格的差异化不仅体现在企业的产品上而且体现在供应链上。以CMP为例，化学机械抛光（CMP）是集成电路制造过程中实现晶圆表面平坦化的关键工艺。而CMP抛光液则是CMP制程中的必备溶剂。CMP 工艺通过表面化学作用和机械研磨的技术结合来实现晶圆表面微米/纳米级不同材料的去除并平坦化，使得下一步的光刻工艺得以进行。能够突破的企业不仅能够得到市场的高度认可，而且也能够得到社会资金的广泛认可。由于而CMP抛光液属于产业的高端，高纯硅溶胶的研究受到广泛的关注。
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